Moderne Materialien, Werkstoffe und Textilien

Beschichtungstechnologie ANOF^®

ANOF steht für Anodische Oxidation unter Funkenentladung. Es ist ein Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Metallen und Metall-Legierungen, das an der Technischen Hochschule Karl-Marx-Stadt, Sektion Chemie und Werkstofftechnik und dem Vertragspartner VEB LEW Henningsdorf 1976 entwickelt und nachfolgend durch mehr als 45 Patente abgesichert wurde. Die Beschichtung – insbesondere von Aluminium, Magnesium, Titan, Tantal, Niobium, Zirkonium usw. – erfolgt dabei unter plasmachemischen Bedingungen in wässrigen Elektrolytlösungen und führt zu kurzzeiterschmolzenen oxidkeramischen matten Schichten, die weiß, schwarz oder auch farbig ausgebildet werden können. ANOF ist eine Hochtechnologie, die den Grad der Veredelung des Substratmaterials erhöht und die bewusste Gestaltung differenzierter Schichteigenschaften ermöglicht.

Die Vorteile der ANOF-Technologie sind:

• niedrige Investitionskosten für Ausrüstungen,
• unkomplizierter Aufbau der Apparatur,
• bedien- und wartungsarme Zellgestaltung,
• hohe Elektrolytstandzeit,
• Einstufenprozess auch bei Erzeugung farbiger schichten und superfester Oberflächen,
• hoher Umgriff bei Beschichtung kompliziert geformter Teile.

Die Forschungen führten bis 2002 zu mehr als 25 Ingenieur- und Diplom-Arbeiten sowie 8 Dissertationen.
Dank dieser Entwicklung sind viele weitere Patente im europäischen, amerikanischen und japanischem Raum entstanden und haben damit die ANOF-Technologie weltweit bekannt gemacht.
Damit wurde nicht nur die ausgezeichnete praxisnahe Forschung des Wissenschaftsbereiches Chemie an der damaligen TH Karl-Marx-Stadt ausgewiesen, sondern auch auf die angrenzenden thermischen, chemisch-thermischen und elektro-chemisch-thermischen Verfahren zur Erzeugung von Hartstoff- und/oder Verschleißschutz-Schichten aufmerksam gemacht, an denen die Wissenschaftler der Sektion Chemie und Werkstofftechnik erfolgreich forschten.
Heute finden ANOF-Schichtsysteme eine breite Anwendung.

In der Medizintechnik werden auf Dentalimplantaten, Resektionsplatten und künstlichen Gelenken durch die Wirkung von eingelagerten Wachstumsstimulatoren eine hohe Bioverträglichkeit, Osteogenese und damit eine lange Liegedauer des Implantats im Implantatbett erreicht. Auf Schaltkreissubstraten und Sensoren in der Elektronik werden durch Strukturierung der Oberfläche und durch gezielte Dotierung eine hohe Stabilität und Empfindlichkeit bewirkt. Weitere Anwendungsmöglichkeiten finden sich im Maschinen- und Textilmaschinenbau als Verschleiß- und/oder Korrosionsschutzschicht auf Fadenführer, Hydraulikzylinder, Turbomolekularpumpen usw.; in der Elektrotechnik/Elektronik auf Sensor-und Kühlkörpersystemen; in der Luft- und Raumfahrt als ausdampfarme, diffus reflektierende Schicht in optischen Systemen, und in der chemischen Industrie als Katalysator oder Katalysator-Trägermaterial, nicht zuletzt durch die ANOF-verfahrensspezifische Herstellung von „plasma-chemisch oxidiertem Silizium“ („PCOS“ – 1996) zur Bildung von temperaturstabilen, dotierten Schalenkatalysatoren für Mikrostruktur-Reaktoren.