Technologien der Mikroelektronik
Prof. Dr. T. Geßner, Prof. Dr. S. E. Schulz, Dr. R. Streiter
Inhalte
- 0 Zur Geschichte der MIkroelektronik
- 1 Mikroelektroniktechnologie
- 1.1 Definition
- 1.2 Prozesse / Basistechnologien
- 1.3 Komponenten (Bipolar, Unipolar, Dioden, Widerstände, Kapazitäten, ...)
- 1.4 Entwicklungstendenzen
- 1.5 Grundmaterial und Herstellung
- 2 Fertigungsumfeld
- 2.1 Definition "Reinrauk" / Defektdichten
- 2.2 Ausbeute / Zuverlässigkeit
- 2.3 Equipmentkonfiguration
- 3 Einzelprozesse und Equipments
- 3.1 Diffusion
- 3.2 Ionenimplantation
- 3.3 Oxidation
- 3.4 Chemische Dampfphasenabscheidung CVD
- 3.5 Epitaxie
- 3.6 Physikalische Schichtabscheidung PVD
- 3.7 Elektrochemische Abscheidung
- 3.8 Lithografie: Belichtung, Lacktechnologie und Methoden zur Auflösungserhöhung
- 3.9 (Trocken-)Ätzen & CMP
- 3.10 Maskenprozess
- 3.11 Reinigung / Nasschemie
- 3.12 Packaging / Aufbau- und Verbindungstechnik (AVT)
- 3.13 Messtechnik
- 4 Technologien
- 4.1 Designregeln
- 4.2 (Elektrische) Prozesscharakterisierung
- 4.3 Prozesskontrolle
- 4.4 Prozessintegration
- 4.4.1 Prozessmodule
- 4.4.2 Bipolare Bauelemente-Technologien
- 4.4.3 CMOS
- 4.4.4 BICMOS- & SOI-Techniken
- 5 Trends in der Metallisierung
- 5.1 Grenzen der Strukturierung
- 5.2 Metallisierung
- 5.3 Gestaltung des Gatebereichs
- 5.4 Trench