Chemnitzer Studentin ist „Talent in Photomask Industry 2022“
Cansu Hanim Canpolat-Schmidt studiert Micro- and Nano-Systems an der TU Chemnitz und wurde im Rahmen der „European Mask and Lithography Conference“ in Leuven mit dem „Best Student Paper“ geehrt
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Die Studentin Cansu Hanim Canpolat-Schmidt wurde mit dem „Best Student Paper“ geehrt. Foto: Cansu Hanim Canpolat-Schmidt (privat)
Auf der diesjährigen 37. European Mask and Lithography Conference (EMLC) in Leuven (Belgien) verlieh das Organisationskomitee zum sechsten Mal die Titel „Talents in Photomask Industry“. Mit der Auszeichnung werden seit 2016 Studentinnen und Studenten für herausragende Forschungsarbeiten im Bereich der Photomasken-Herstellung gewürdigt. In diesem Jahr wurde diese Ehre Cansu Hanim Canpolat-Schmidt durch die Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology GmbH zuteil. Canpolat-Schmidt studiert an der Technischen Universität Chemnitz im internationalen Studiengang Micro and Nano Systems. Der Preis wurde ihr am 22. Juni 2022 überreicht und ist mit einem ZEISS-Zertifikat sowie einer Trophäe verbunden. Darüber hinaus kann Canpolat-Schmidt ihre Arbeit im Rahmen der SPIE Photomask Technology Conference in Monterey Kalifornien vorstellen. Zur Deckung der Reisekosten ist mit dem Award zugleich ein Preisgeld in Höhe von 2.500 Euro verbunden.
Canpolat-Schmidt präsentierte ihre Ergebnisse gemeinsam mit ihren Betreuern Dr. Georg Heldt, Dr. Christian Helke und Dr. Danny Reuter, Wissenschaftliche Mitarbeiter am Zentrum für Mikrotechnologien (Leitung: Prof. Dr. Harald Kuhn) der TU Chemnitz sowie am Fraunhofer ENAS. Dr. Anja Voigt von der Micro Resist Technology GmbH gehört ebenfalls zum Betreuungsteam von Canpolat-Schmidt und war an der Präsentation beteiligt.
Neben ihrem Studium an der TU Chemnitz forscht Canpolat-Schmidt am Fraunhofer-Institut für Elektronische Nanosystem ENAS auf dem Gebiet der Technologieentwicklung für Mikro- und Nanosysteme. Ihr Forschungsinteresse liegt insbesondere auf dem Gebiet der Nanostrukturerzeugung mittels Elektronenstrahl-Lithographie. Damit arbeitet sie sowohl an der TU Chemnitz als auch am Fraunhofer ENAS daran, neue technologische Prozesse zu untersuchen und Impulse für die Zukunft dieser Technologien zu geben.
Schnellerer und effizientere Elektronenstrahl-Lithographie ermöglichen
Mit ihrem Konferenzbeitrag unter dem Titel „Lithographic Performance of Resist ma-N 1402 in an E-beam/i-line Stepper Intra-level Mix and Match Approach“ konnte Cansu Hanim Canpolat-Schmidt zeigen, wie die hohen Schreibzeiten von Nano- und Mikrostrukturen mittels Elektronenstrahl-Lithographie durch einen sogenannten „Mix & Match“-Ansatz drastisch reduziert werden können.
Mit dem von ihr vorgestellten Verfahren ergeben sich nicht nur effizientere technologische Prozesse und damit eine schnellere Bearbeitung der herzustellenden Layouts, sondern auch neue technologische Anwendungen, die bisher aufgrund des zeitlichen Aufwandes nicht realisierbar waren.
Matthias Fejes
05.07.2022
