| Description | (?)Type of Job |
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 #317 Topic:
Glass frit bonding plays a crucial role in microelectromechanical systems (MEMS) technology by providing excellent hermetic sealing, high process yield, and good reliability. It enables the encapsulation and sealing of MEMS components at the wafer or chip level, ensuring protection and enhancing device performance. The bonding process involves screen printing a glass paste, thermal conditioning, and thermo-compressive bonding, allowing for the incorporation of metallic lead-throughs and ensuring high bonding strength. Glass frit bonding techniques have been optimized to control the width and height of the bonding layer, improving bonding strength and reliability in MEMS packaging processes. Additionally, glass frit bonding facilitates the creation of vacuum packages for MEMS devices, enhancing resonant performance and quality factor by sealing vacuum inside the package. Modeling studies have shown that stress from the bonding process can impact sensor performance, highlighting the importance of precise bonding techniques in MEMS applications. ENAS is very experienced in the field of glass frit bonding and glass frit deposition using screen printing.
In this project, we would like to explore the capabilities of digital additive deposition technologies i) dispensing and ii) jetting for two different commercially available lead-free glass frit pastes. The advantage of the digital additive deposition is that they are mask free (only dxf. Is necessary to generate the tool path) and that they can be used when it comes to print on topographic surfaces.
Work tasks:
- Literature research on the state of the art, glass frit bonding
- Literature research on the state of the art, glass frit deposition using dispensing or jetting
- Layout and design using different software to generate tool paths
- Parameter studies using a Musashi dispensing tool to achieve reproducible printed voluminal (droplets or lines)
- Microscopy and characterization (i.e. 3D profil) of the printed samples
- Sample preparation (wafer and chips)
- Demonstration and Bonding tests on Wafer- or Chiplevel
- Bonding DOE`s and cross section preparation, SEM images
- summarizing the experimental results and metrological evaluation of the machined copper layers
- Preparation of a poster as well as the presentation and the defense of the thesis
Time: 3 months to 10 months, Lab time at least 1 or 2 days per week is estimated and should be spend as a minimum to perform the experiments
Hiwi: additional HIWI position possible
Supervisor:
Frank Roscher
Fraunhofer ENAS, Abt. Systems Packaging
Technologie-Campus 3
09126 Chemnitz
Tel.: 03 71 / 45 00 12 39
E-Mail: frank.roscher@enas.fraunhofer.de
Contact: Apply for this job by email Possible as: Student Assistance, Bachelor-Thesis, Master-Thesis Addressed topics: MEMS, Micro- and Nanoelectronics, Packaging | | | | | | | |
#316 Are you passionate about cutting-edge research at the intersection of semiconductor technology and artificial intelligence?
Join us as a student in our team for artificial intelligence and data based methods at the Fraunhofer Institute of Electronic Nanosystems (ENAS).
We're on a mission to create digital twins for highly complex semiconductor manufacturing processes - enabling process optimization and model-based control. As the industry moves towards more individualized processes and products, a significant challenge is to enable accurate predictions with limited reference data. We, therefore, employ a broad range of artificial intelligence algorithms that enrich process data with sophisticated domain knowledge, as well as semi-supervised approaches to incorporate unlabeled data.
Qualifications:
• A strong understanding as well as practical experience with AI and Machine Learning algorithms.
• Excellent programming skills (preferably with Python).
• A strong interest in interdisciplinary work at the intersection of semiconductor technology, data science and artificial intelligence.
We are currently seeking candidates for Master's theses, internships, and student assistant positions.
Please send your application to Dr. Jan Langer at jan.langer@enas.fraunhofer.de.
Don't miss this opportunity to contribute to cutting-edge research in the programmability of heterogeneous compute platforms! Apply now and be part of the Data-Based Methods team at Fraunhofer ENAS. Contact: Apply for this job by email Possible as: Student Assistance, Master-Thesis Addressed topics: Others | | | | | | | |
#315 Are you passionate about developing application-driven computer vision pipelines for semiconductor metrology? Join our team as a student and contribute to the development of computer vision models for analyzing measurements of metrology devices. Our mission is to enhance the efficiency of semiconductor manufacturing by automating image analysis, utilizing web-based user interfaces and simplifying report generation.
Key Responsibilities:
• Develop computer vision models for analyzing metrology measurements.
• Extract meaningful information from metrological data.
• Deploy your pipeline in web-based user interfaces.
Qualifications:
• Strong understanding and practical experience in image processing methods or computer vision models.
• Excellent programming skills (preferably with Python) are required.
• Strong abstract and mathematical thinking skills.
• A strong interest in interdisciplinary work at the intersection of software development, data science, and semiconductor metrology is essential.
We are currently seeking candidates for Master's theses, internships, and student assistant positions.
Please send your application to Dr. Jan Langer at jan.langer@enas.fraunhofer.de.
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#314 Are you passionate about cutting-edge research at the intersection of hardware design and software programming? Join us as a student and help program heterogeneous compute platforms of the future, that incorporate FPGAs, GPUs and AI acceleration engines in the same device. These advanced platforms need new programming paradigms, software tools and languages to be utilized efficiently. In our group we strive to accelerate applications from medical engineering, machine learning and image processing on heterogeneous platforms.
Qualifications:
• Candidates with a strong understanding and practical experience in the principles of hardware design and/or GPU programming are preferred.
• Excellent programming skills are required.
• A strong interest in interdisciplinary work at the intersection of hardware design, mathematical methods and software development is essential.
We are currently seeking candidates for Master's theses, internships, and student assistant positions.
Interested candidates should send their applications to Dr. Jan Langer at jan.langer@enas.fraunhofer.de.
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#313 Are you passionate about cutting-edge research at the intersection of healthcare, technology, and data science? Join us as a student in the exciting field of multi-energy X-ray imaging for more accurate diagnoses, improved treatment planning, and enhanced image quality across various applications in healthcare and beyond. This internship offers a unique opportunity to work on an innovative project that combines artificial intelligence (AI) with advanced medical imaging techniques.
Qualifications:
• Candidates with a strong understanding and practical experience with AI and Machine Learning algorithms are preferred.
• Excellent programming skills (preferably with Python) are required.
• A strong interest in interdisciplinary work at the intersection of medical engineering, physics, mathematics, and data science is essential.
We are currently seeking candidates for Master's theses, internships, and student assistant positions.
Interested candidates should send their applications to Dr. Jan Langer at jan.langer@enas.fraunhofer.de.
Don't miss this opportunity to contribute to cutting-edge research in health care and technology! Apply now and be part of the Data-Based Methods team at Fraunhofer ENAS. Contact: Apply for this job by email Possible as: Student Assistance, Master-Thesis Addressed topics: Others | | | | | | | |
#312 The particular strength of the Fraunhofer Institute for Electronic Nano Systems ENAS lies in the development of smart systems - so-called intelligent systems for various applications. The systems combine electronic components, micro and nano sensors and actuators with interfaces for communication. Fraunhofer ENAS develops individual components, the technologies for their production as well as system concepts and system integration technologies and transfers them into practical use. Fraunhofer ENAS accompanies customer projects from the idea to thedesign, technology development or implementation using existing technologies, right through to the tested prototype. The Data-based Methods team at Fraunhofer ENAS develops real-world applications using AI, machine learning and computer vision. The main focus is on semiconductor manufacturing and medical technology.
Are you passionate about cutting-edge research at the intersection of healthcare, technology and data science?
Join our team in the Horizon Europe project "NOVO: Next Generation Imaging for Real-Time Dose Verification Enabling Adaptive Proton Therapy". Work in an international team of experts from different disciplines such as proton therapy, computer science, applied mathematics, detector physics and medical physics.
We are currently looking for students for Master's theses, internships and student assistants. We can discuss our ideas together to find theright job for you.
What you bring to the table?
- You already have some practical experience with AI and machine learning algorithms? Then you've come to the right place.
- Excellent programming skills (preferably in Python) are required.
- A strong interest in interdisciplinary work at the intersection of medical engineering, physics, mathematics and data science is essential.
We value and promote the diversity of our employees' skills and therefore welcome all applications - regardless of age, gender, nationality, ethnicand social origin, religion, ideology, disability, sexual orientation and identity. Severely disabled persons are given preference in the event of equalsuitability.
Interested? Apply online now. We look forward to getting to know you!
Dr. Jan Langer (jan.langer@enas.fraunhofer.de) will be happy to answer any questions you may have about the position. Contact: Apply for this job by email Possible as: Student Assistance, Master-Thesis Addressed topics: Others | | | | | | | |
#311 Der technologische Fortschritt im Bereich der Halbleiterindustrie beruht im Wesentlichen auf der fortgesetzten Miniaturisierung von integrierten Schaltungen und Mikro-Elektro-Mechanischen-Systemen (MEMS). Eine der Schlüsseltechnologien, um diese Skalierung zu erreichen ist die lithographische Strukturierung von Substraten. Gängige kritische Dimensionen dieser Strukturen liegen heutzutage im Bereich zwischen 20-100nm. Um diese Höchstauflösung zu ermöglichen, sind besondere Anforderungen an das Lithographietool und den zu verwendenden Lack zu stellen.
Am Fraunhofer Institut ENAS steht mit dem Vistec SB254 ein hochmoderner Elektronenstrahlbelichter (Formstrahler) der neuesten Generation zur Verfügung, der SEMI-Standard Si Substrate der Größen 4“,6“ und 8“ belichten kann. Im Rahmen dieser studentischen Arbeit soll die wechselseitige Abhängigkeit zwischen Elektronenstrahlparametern und Lack Prozessparametern untersucht werden. Im Besonderen sollen die erzielten Lackprofile & Lackstrukturen im Rasterelektronenmikroskop (JEOL JSM7800 F) charakterisiert werden und für die nachfolgende Prozesstechnologie optimiert werden. Dabei soll ein neuartiges Lacksystem als Alternative zum HSQ-Lack, welches in Kooperation mit dem Lackhersteller Allresist GmbH entwickelt wird, untersucht werden:
Insbesondere der Negativlack weist chemische Eigenschaften auf, der ihn gleichermaßen sensitiv für die Belichtung im optischen Spektrum und mit Elektronen macht. In einem ersten Schritt werden die Homogenität und die Schichtdicke der Lacke über den Wafer statistisch erfasst. Anschließend werden Teststrukturen in den Lack belichtet und mit dem REM charakterisiert. Basierend auf diesen Ausgangswerten werden die Belichtungsparameter und Prozessparamter variiert.
Die Aufgaben im Einzelnen:
- Erstellung einer Untersuchungsserie (Variation der Lackdicke - Spin-Kurven) auf 6“-Si Substraten mit dem zuvor genannten Lack (Oberflächenprofilometrie)
- Erstellung einer Testbelichtung mit Variation der Belichtungs- und Prozessparameter (Kontrastkurven)
- Auswertung einer Belichtungsserie (Variation der Elektronendosis/ Prozessparameter) belackter Wafer mit einem Testdesign und Bewertung der Lackprofile/Strukturen
Art der Arbeit: Bachelorarbeit, Projektarbeit, Masterarbeit
Kontakt: Dr. Christian Helke, 0371-45001-450, christian.helke@enas.fraunhofer.de Contact: Apply for this job by email Possible as: Student research project, Bachelor-Thesis, Master-Thesis Addressed topics: MEMS, Micro- and Nanoelectronics, Nano technology, Measurement / analytics, Processes / technology | | | | | | | |
#310 Wir suchen einen engagierten und motivierten Studenten / eine engagierte und motivierte Studentin, der/die sich für das Thema der chemischen Gasphasenabscheidung von Kupfer und Kupferoxiden in dünnen Schichten interessiert. Kupferoxide sind hydrophil und zeigen photoresistive, photokatalytische, halbleitende und memristive Eigenschaften, sodass sie für vielfältige Anwendungen wie beispielsweise in der Photovoltaik oder für die Herstellung von Speichern und Photodetektoren eingesetzt werden können. Die Arbeit beinhaltet die Durchführung von Prozessen zur Gasphasenabscheidung sowie der Charakterisierung der abgeschiedenen Schichten.
Aufgaben:
• Durchführung einer Literaturrecherche zum Thema und Zusammenfassung relevanter Erkenntnisse
• Entwicklung von chemischen Gasphasenabscheidungsprozessen für Kupfer-, Kupfer(I)- und Kupfer(II)oxidschichten
• Durchführung der Abscheideprozesse unter Parametervariation
• Charakterisierung der abgeschiedenen Schichten mittels geeigneter Messmethoden., bspw. Messung und Analyse der Schichtdicke und des Widerstands der abgeschiedenen Schichten
• Dokumentation und Auswertung der Messergebnisse
• Funktionsnachweis der Schichten an einem Demonstrator
Anforderungen:
• Studium an der Fakultät für Elektrotechnik und Informationstechnik, der Fakultät für Naturwissenschaften oder eines verwandten Fachbereichs.
• Grundkenntnisse in der chemischen Gasphasenabscheidung und der damit verbundenen Mess- und Charakterisierungstechniken sind von Vorteil.
• Zuverlässigkeit, Genauigkeit und ein hohes Maß an Verantwortungsbewusstsein.
• Fähigkeit zur eigenständigen Arbeit sowie zur Zusammenarbeit im Team.
• Gute Kenntnisse der englischen Sprache für die Literaturrecherche und das Verständnis von wissenschaftlichen Veröffentlichungen.
Wir bieten:
• Die Möglichkeit, praktische Erfahrungen in einem spannenden Forschungsfeld zu sammeln.
• Betreuung durch erfahrene Wissenschaftler und Experten auf dem Gebiet der chemischen Gasphasenabscheidung.
• Zugang zu modernen Laboratorien (Reinraum) und Geräten für die Durchführung der Experimente.
• Die Chance, eigene Ideen einzubringen und an der (Weiter)Entwicklung von Projekten mitzuwirken.
Falls Sie Interesse an dieser studentischen Arbeit haben und die genannten Anforderungen erfüllen, senden Sie uns bitte eine kurze persönliche Vorstellung mit Ausbildung, Qualifikationen und Ihrer Motivation. Bei weiteren Fragen stehen wir Ihnen gerne zur Verfügung. Wir freuen uns auf Ihre Bewerbung!
Bitte beachten Sie, dass diese Ausschreibung vorbehaltlich der Verfügbarkeit von Ressourcen ist.
Kontakt:
• Dr. Lysann Kaßner
Fraunhofer Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS
Email: lysann.kassner@enas.fraunhofer.de
• Jörn Bankwitz
Fraunhofer Institut für Elektronische Nanosysteme ENAS
Email: joern.bankwitz@zfm.tu-chemnitz.de
Master- oder Diplomarbeit
Themen: Chemical vapor deposition (CVD), Dünnschichten, Kupfer und Kupferoxid, Charakterisierung
Contact: Apply for this job by email Possible as: Master-Thesis, Diploma Thesis Addressed topics: MEMS, Micro- and Nanoelectronics, Nano technology, Measurement / analytics, Processes / technology | | | | | | | |
 #308 In den vergangenen Jahren ist unsere Elektronik Landschaft stark von Trends wie dem Internet der Dinge oder der Industrie 4.0 geprägt wurden. Inzwischen geht der Trend zu multifunktionalen Endgeräten, die neben Rechen- und Kommunikationsaufgaben auch sensorische Aufgaben zum Zwecke der Zustandsüberwachung übernehmen. Perspektivische Anwendungen zielen auf Point-of-Care-Diagnostik, Luft- und Lebensmittelüberwachung, oder der Analyse von krankheitsspezifischen Biomarkern in der ausgeatmeten Luft ab.
Niedrigdimensionale Nanomaterialien bieten aufgrund Ihres hohen Oberflächen-zu-Volumenverhältnisses die ideale Materialbasis für hoch-sensitive Gassensoren mit geringem Energieverbrauch, welche in diesem Kontext benötigt werden.
Das Ziel dieser Forschungsarbeit, besteht in der systematischen elektrischen Charakterisierung von Nanomaterialbasierten Gassensoren in Feldeffekttransistor-Konfiguration unter verschiedenen Gasen. Es sind methodische Entwicklungen, wie Skript-basierter Auswerteverfahren zur Extraktion der Sensitivität bei verschiedenen Prüfgaskonzentrationen zu tätigen und statistisch zu bewerten. Im Weiteren sind die Querempfindlichkeiten auf verschiedene Gase zu analysieren. Die Arbeit kann je nach Fortschritt auf die Implementierung von speziellen Funktionalisierungen erweitert werden. Die Untersuchungen werden dabei durch analytische Methoden wie etwa Rasterkraft-Mikroskopie, Raman-Spektroskopie, und elektrischer Feldeffekttransistor-Messungen unterstützt.
Hauptaufgaben:
1. Literaturrecherche
2. Methodische Entwicklungen am Gassensorteststand oder zur skriptbasierten Evaluation
3. Aufnahme und Evaluierung von systematischen Versuchsreihen zur Sensitivität der Sensoren
4. Regelmäßige wissenschaftliche Präsentationen des Projektfortschritts in Rahmen des Arbeitsgruppenseminars
Anforderungen:
1. Studium der Physik, Ingenieurwissenschaften (Mikro/Nanotechnologie), Chemie oder äquivalenter Studiengänge
2. Grundkenntnisse zu analytischen Charakterisierungsmethoden
3. Selbstständiger und unabhängiger Arbeitsstil
4. Sprachen: Deutsch, Englisch
Kontakt:
Simon Böttger
Group Carbon Nano Devices
Center for Microtechnologies
Email: simon.boettger@zfm.tu-chemnitz.de
Tel: 0371/531-32374
Contact: Apply for this job by email Possible as: Student research project, Bachelor-Thesis, Master-Thesis Addressed topics: Micro- and Nanoelectronics, Nano technology, Measurement / analytics, Processes / technology | | | | | | | |
#307 Im Rahmen dieser Arbeit sollen Trockenätzversuche an SiO2 und Si3N4 auf Waferlevel durchgeführt, Versuchsparameter hinsichtlich Selektivität variiert und die Ergebnisse ausgewertet werden.
Konkret soll eine Selektivität von mindestens 1:30 zwischen SiO2 und Si3N4 erreicht werden, indem das F/C-Verhältnis eingestellt wird. Praktisch wird dieses Verhältnis über den Gasfluss der Prozessgase (CHF3, CF4) bestimmt. Die Experimente werden an SiO2 und Si3N4 Schichten sowie SiO2/Si3N4 Stapeln auf Si-Wafern durchgeführt. Zu den Aufgaben zählen:
• Literaturrecherche (Trockenätzen/RIE, F/C-Verhältnis, SiO2/SiN Ätzmechanismen, …)
• Versuchsplanung
• Versuchsdurchführung an der Ätzanlage
• Charakterisierung an Messgeräten (Mikroskop, Profilometer, REM, …)
• Auswertung und Präsentation der Ergebnisse
Die praktischen Versuche werden im Reinraum durchgeführt.
Nils Dittmar
+49 371 45001 620
nils.dittmar@enas.fraunhofer.de
Literatur:
[1] Journal of Vacuum Science & Technology A 17, 26 (1999); https://doi.org/10.1116/1.582108
[2] J. Vac. Sci. Technol. A 38, 050803 (2020); https://doi.org/10.1116/6.0000395
Contact: Apply for this job by email Possible as: Student research project Addressed topics: MEMS, Nano technology, Measurement / analytics, Processes / technology, Review of Literature | | | | | | | |
#299 Ziel der Arbeit ist, mit Plasmaätzverfahren Gruben mit vertikalen Wänden in einkristallinem Silizium zu ätzen. Im Sinne einer Verbesserung des Umwelt- und Klimaschutzes dürfen hierfür keine fluorkohlenstoffhaltigen Prozeßgase zum Einsatz kommen.
Eine Möglichkeit der Umsetzung dieser Aufgabe wurde von Nguyen u. a. gezeigt [1–4].
Aufgabenstellung
1. Literaturrecherche zum Thema
2. Vermessung bzw. Charakterisierung vor und nach den Ätzversuchen
3. Übertragung eines in der Literatur beschriebenen und geeigneten Ätzprozesses auf die Gegebenheiten am ZfM
4. Versuchsplan aufstellen
5. Durchführung der Ätzversuche
6. Untersuchung der Ätztiefen und -profile mit unterschiedlichen Meßmethoden z.B. Oberflächenprofilometrie, Fokusdifferenzmethode am Lichtmikroskop
7. Auswertung der Ergebnisse
[1] V. T. H. Nguyen et al. , “The CORE Sequence: A Nanoscale Fluorocarbon-Free Silicon Plasma Etch Process Based on SF6/O2 Cycles with Excellent 3D Profile Control at Room Temperature”, ECS Journal of Solid State Science and Technology , Bd. 9, H. 2, Art. 24002, Jan. 2020.
[2] V. T. H. Nguyen, E. Shkondin, F. Jensen, J. Hübner, P. Leussink, and H. Jansen, “Ultrahigh aspect ratio etching of silicon in SF6-O2 plasma: The clear-oxidize-remove-etch (CORE) sequence and chromium mask”, Journal of Vacuum Science & Technology A , Bd. 38, H. 5, Art. 53002, Sep. 2020.
[3] V. T. H. Nguyen, F. Jensen, J. Hübner, P. Leussink, and H. Jansen, “On the formation of black silicon in SF6-O2 plasma: The clear, oxidize, remove, and etch (CORE) sequence and black silicon on demand”, Journal of Vacuum Science & Technology A , Bd. 38, H. 4, Art. 43004, Jul. 2020.
[4] V. T. H. Nguyen, “Directional Nanoscale Silicon Etching using SF6 and O2 Plasma,” Diss., Dänemarks Technische Universität, 2020.
Art der Arbeit: Projektarbeit
Kontakt: Dipl.-Ing. Küchler, (P169)
531 35836, 45001 487
matthias.kuechler@enas.fraunhofer.de
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#298 Ziel der Arbeit ist, aluminiumbasierte Schichten zur Verwendung während des reaktiven Ionenätzens zu untersuchen. Wegen ihres geringeren Abtrags im Vergleich zu üblicherweise als Maskierung eingesetzten Stoffen wie Fotolack oder Siliziumdioxid werden längere und damit tiefere Ätzungen ermöglicht. Zum Einsatz können z. B. Schichten aus Aluminium, Aluminiumoxid, Aluminiumnitrid oder anderen Aluminiumverbindungen kommen. Die Untersuchungen sollen am Beispiel des tiefen Siliziumätzens (DRIE) erfolgen. Besonderes Augenmerk soll auf die Qualität des Ätzgrunds gerichtet werden. Zum Einstieg in die einschlägige Literatur kann [1-] herangezogen werden.
Aufgabenstellung
1. Literaturrecherche zum Thema
2. Vermessung bzw. Charakterisierung der Maskenschichten vor und nach den Ätzversuchen
3. Durchführung der Messungen am Ellipsometer und Profilometer
4. Untersuchung der Ätztiefen und -profile mit unterschiedlichen Meßmethoden z.B. Oberflächenprofilometrie,
Fokusdifferenzmethode am Lichtmikroskop
5. Auswertung der Ergebnisse, Vergleich der Maskenmaterialien
[1] A. Bagolini, P. Scauso, S. Sanguinetti, and P. Bellutti, “Silicon Deep Reactive Ion Etching with aluminum hard mask”, Materials Research Express, Bd. 6, H. 8, Art. 085913, Mai 2019.
[2] M.Drost, S. Marschmeyer, M. Fraschke, O. Fursenko, F. Bärwolf, I. Costina, M. K. Mahadevaiah, M. Lisker, “Etch mechanism of an Al2O3 hard mask in the Bosch process”, Micro and Nano Engineering, Bd. 14, Art. 100102, April 2022
[3] M. D. Henry, T. R. Young, and B. Griffin, “ScAlN etch mask for highly selective silicon etching” , Journal of Vacuum Science & Technology B, Bd. 35, H. 5, Art. 052001, Sep. 2017.
Art der Arbeit: Projektarbeit
Kontakt: Dipl.-Ing. Küchler, (P169)
531 35836, 45001 487
matthias.kuechler@enas.fraunhofer.de
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#295 Al und Al-Legierungen werden sowohl in der MEMS als auch CMOS Fertigung für elektrische Kontakte, Leitbahnen und Bondpads eingesetzt. Dazu werden meist PVD-Schichten genutzt. Das Fraunhofer ENAS hat einen Prozess erarbeitet, um Al auch galvanisch auf Waferlevel abzuscheiden.
Die elektrochemische bzw. galvanische Abscheidung (ECD) von Al aus ionischen Liquiden (IL) stellt dabei Herausforderungen an die bisherigen Abscheidekonzepte. IL sind Salze mit einem Schmelzpunkt < 100 °C. Diese IL bieten aufgrund ihres breiten elektrochemischen Fensters die Möglichkeit zur Abscheidung von Metallen mit negativem Standardpotential, wie Al, Ti, Ta und Mg. Aufgrund des feuchtigkeitssensitiven Charakters der ILs wird in einer mit Stickstoff gefüllten Glovebox gearbeitet.
Im Rahmen der Arbeiten sollen Abscheide- und Prozessparameter für die galvanische Abscheidung von Al-Schichten über Topografien im Silizium (z.B. Through Silicon Vias) erarbeitet werden. Die Herausforderung liegt dabei in der konformen Abscheidung im Via. Dazu müssen PVD-Prozesse, Lithografie und Galvanik aufeinander abgestimmt werden.
Folgende Aufgaben werden auf Sie zukommen:
- Erarbeitung der Grundlagen der elektrochemischen Abscheidung/ionischen Flüssigkeiten als Fundament für die experimentellen Tätigkeiten (Literatur- und Patentrecherchen)
- Erstellung eines theoretischen Prozessplans zur Realisierung der Zielstellung inkl. Versuchsplan
- Erstellung von Prozessplänen für die Wafer-Präparation inkl. Sichtkontrollen
- Durchführung der galvanischen Abscheidung von Al auf 150-mm Wafer
- Charakterisierung der Schichten (Schichtdickenverteilung, Mikrostruktur, Rauheiten usw.)
- Ausführliche Auswertung und Dokumentation der Versuche
Voraussetzungen:
- Eigenständige und strukturierte Arbeitsweise
- Sorgfältigkeit und Zuverlässigkeit
- Ideal: Kenntnisse in der Elektrochemie und Halbleiterfertigung
Diese Arbeiten können in Form eines Research Projects und/oder Masterarbeit bzw. Diplomarbeiten durchgeführt werden.
Kontakt:
Silvia Braun
Fraunhofer ENAS
Abteilung System Packaging
0371/45001-277
silvia.braun@enas.fraunhofer.de
Contact: Apply for this job by email Possible as: Student research project, Master-Thesis, Diploma Thesis Addressed topics: MEMS, Micro- and Nanoelectronics, Nano technology, Measurement / analytics, Processes / technology, Review of Literature | | | | | | | |
 #291 Ähnlich wie der Mensch reagiert das Vieh (Rinder) mit auffälligen Augenbewegungen, wenn es sich gestresst fühlt.
Es ist wünschenswert, dass ein Tierarzt während der Behandlung, z.B. bei der Klauenpflege durch automatische Beobachtung dieser Augenbewegung mittels Videotechnik unterstützt wird. Durch geeignete Klassifizierung des Videostreams, evtl. auch eines solchen im infraroten Bereich, soll der Stresslevel bestimmt werden.
Similar to humans, livestock (cattle) react with eye movements when they feel stressed.
It is desirable that a veterinarian is supported during the treatment, e.g. during hoof care, by automatically observing this eye movement using video technology. The stress level should be determined by suitable classification of the video stream, possibly also one in the infrared range.
https://www.uq.edu.au/news/article/2016/07/eyes-have-it-revealing-secrets-of-cow-emotions
Aufgabenstellung
1. Literaturrecherche zum Thema
2. Analyse vorhandener Software und vorhandener Vorarbeiten
3. Bewertung geeigneter Methoden
4. Implementierung
Voraussetzungen:
• Selbstständige, zielorientierte Arbeitsweise
• Spaß am Programmieren
• Kenntnisse in Python (Jupyter Notebook)
• Grundlagen KI-Methoden
task
1. Literature research on the topic
2. Analysis of existing software and existing preliminary work
3. Evaluation of suitable methods
4. Implementation
Requirements:
• Independent, goal-oriented way of working
• Enjoy programming
• Knowledge of Python (Jupyter Notebook)
• Basics of AI methods
Bitte senden sie Ihre Unterlagen mit aktuellem Notenspiegel an die untenstehenden Kontaktdaten.
Start der Arbeit: ab sofort
Art der Arbeit: Masterarbeit
Arbeitsgebiet: Computer Vision
Ansprechpartner:
Reinhard Streiter
Tel: 0371 531 35842
E-Mail: reinhard.streiter@zfm.tu-chemnitz.de
Addressed topics: computer vision, Artificial Intelligence, Image Processing, Bild/Videoanalyse
Contact: Apply for this job by email Possible as: Master-Thesis Addressed topics: Others, Programming, Simulation | | | | | | | |
 #285 In recent years, pronounced trends like the Internet of Things or 5G has led to more and more connected and digitalized cyber-physical systems. This results in an increased demand on embedded dedicated hardware security. Hence, unclonable, unpredictable and tamper-evident hardware security primitives, such as Physical Unclonable Functions (PUFs), became more and more important. In this context, emerging nanotechnologies based on nanomaterials such as Carbon Nanotube got into focus due to technological compatibility to CMOS as well as promising security features.
In this research project, a systematic study on the wafer-level CNT integration process is planned targeting processes for appropriate level of property distribution in large arrays of CNT-FETs designed as a PUF element. By means of scanning electron microscopy, Raman spectroscopy, and electrical parameter analyzation as well as correlative data analysis, an extended view on the PUFs and processes should be elaborated.
Tasks:
1. Literature review
2. CNT dispersion preparation
3. Processes and systematical parameter variations
4. Evaluation of measurement data
5. Regular scientific presentations of the progress in workgroup seminar
Requirements:
1. Study of microtechnology/microelectronics, physics, chemistry, mathematics or related fields
2. Basic knowledge about analytical characterization methods
3. Organized, result-oriented and self-motivated
4. Very good understanding and reading language skills in German, English Contact: Apply for this job by email Possible as: Student research project, Bachelor-Thesis, Master-Thesis, Diploma Thesis Addressed topics: Micro- and Nanoelectronics, Nano technology, Measurement / analytics, Processes / technology | | | | | | | |
#284 Die CarbonNanodevice Gruppe am ZfM/ Fraunhofer ENAS erforscht und entwickelt Kohlenstoff-basierende nano-elektronische Bauelemente für Elektronik und Sensoranwendungen. Es konnte bereits gezeigt werden, dass mit einer noch nicht optimierten Kohlenstoffnanoröhren-Technologie die Performance von State-of-the-art Silizium Hochfrequenz-Transistoren erreicht werden kann. Hierfür wird hochspezielles und einzigartiges Equipment verwendet, welches auf die Integration und Vermessung von Nanomaterialien in Bauelementen und Systemen ausgelegten ist. Im Rahmen einer Studentenarbeit soll die Leistungsfähigkeit solcher HF Transistoren weiter verbessert werden.
Aufgaben:
Durchführung und Untersuchung von verschiedenen nass- und trochenchemischen Reinigungsprozeduren von Kohlenstoffnanoröhren in Feldeffekttransistoren. Die Verschiedenen Reinigungverfahren werden hinsichtlich ihrer Effektivität durch XPS-Spektroskopie, Rasterkraftmikroskopie, Raman-Spektroskopie sowie durch elektrische Messungen der Transistoren charakterisiert. Speziell soll das Verfahren/ die Prozedur ermittelt werden, welche den Kontaktwiederstand zwischen Kohlenstoffnanoröhre und Metallelektrode minimiert.
Voraussetzung:
- Studium in den Fachrichtungen: Physik, Elektrotechnik und Informationstechnik, Mikrosysteme und Mikroelektronik, o.Ä.
- Laborerfahrung
- Erfahrung beim Datenauswerten
- Selbstständige und zuverlässige Arbeitsweise
- englische und deutsche Sprachkenntnisse
Contact: Apply for this job by email Possible as: Student research project, Bachelor-Thesis, Master-Thesis Addressed topics: Micro- and Nanoelectronics, Nano technology, Measurement / analytics, Processes / technology, Review of Literature | | | | | | | |
